パーティクル検査装置
パーティクル検査装置
近年進歩の著しいシリコンウエハ、液晶パネルの量産化において歩留まりの向上が重要課題になっております。生産の工程での付着異物が不良の大きな原因になっており、付着粒子測定の重要性はますます高くなっております。これらのニーズにお応えするため、基板異物検査装置『YPIシリーズ』を開発いたしました。
本装置の開発には、大学、政府研究機関などで定評のあるエアロゾルゾンデ、パーティクルカウンターで培われた光散乱測定技術をはじめメカ制御技術やソフトウェア開発技術などの集積技術が生かされております。
本装置の最大の特徴は、小型、安価でありシリコンウエハ、ガラス基板の異物測定が可能で、これまで難しかったガラス基板の表裏分離測定やSiC表面の潜傷の検出を可能にしました。
【特徴】
ウェハ表面やガラス基板等の付着異物や潜傷を高速に検出測定を行い、その情報をマッピング表示します。
1.独自のスキャン方法採用により、従来にない高速、高精度、低価格を実現
2.小型で設置スペースをとりません
3.検出サイズにより測定時間を短縮可能
4.各種膜付きウェハやガラス等の各種基板の検査に対応
5.各シリーズ自動搬送にも対応
【測定依頼】
お客様のシリコンウェハ/ガラス基板等、製品サンプルおよび製品をお預りし、YPIシリーズでサンプル測定も実施しております。
ご購入をご検討の場合でも、無償サンプル測定も実施しておりますので、ご連絡の上ご相談ください。
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YPI-MN
小型・高機能ウェハ表面検査装置
表面パーティクルスキャナ。新開発の高機能・省スペースタイプ。
小型省スペースながら最小検出粒径は0.15μmの高精度、使用形態に合わせて移動可能な小型表面検査装置です。
オプション機能として、透明基板対応用表裏一体分離機能(裏面の影響を排除して表面の測定を実施)及び検出粒子を目視可能な顕微鏡搭載機を準備しました。
測定結果は、検出マップ・サイズ別粒子数及びヒスト、異物画像を付属のP/Cに表示・記録可能です。
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YPI-Nシリーズ(マニュアル)
型式 :YPI-N-XY/YPI-N-Θ
透ウェハ表面検査装置
鏡面基板(シリコンウェハ等)の表面異物を高速にスキャン。
小型基板(2インチ、3インチ)から8インチウェハまで幅広く測定可能です。
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YPI-Nシリーズ(自動搬送)
型式 :YPI-N-XYA/YPI-N-ΘA
ウェハ表面検査装置
鏡面基板(シリコンウェハ等)の表面異物を高速にスキャン。
小型基板(2インチ、3インチ)から8インチウェハまで幅広く測定可能です。
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YPI-MX-Θ DC
従来の表面パーティクル検査装置で検出できないSiC表面の潜傷を未検出する事なく測定。
SiC/GaN関連ウェハ表面検査装置
SiC表面パーティクルスキャナ デュアルヘッド搭載
SiC潜傷の未検出を防ぐ 新開発SiC表面パーティクルスキャナ。
従来の表面パーティクル検査装置で検出できないSiC表面の潜傷を未検出する事なく測定。
透明基板検査可能なYPI-MXに搭載する事で、微小傷欠陥を未検出する事なく測定可能なデュアルセンサ。
355nm(UV)レーザーと受光センサを直交2軸に配置することで、微小傷欠陥の方向性依存をなくし、Sic基板の傷欠陥・潜傷を見落とす事なく検出する事が可能。
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