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フォトマスクのむらはイメージングデバイスの撮像性能に重大な問題を発生することになるため、厳密な検査が必要となります。現在の高倍率光学系を用いた先端検査技術においても50nm以下のむらを検出することは非常に困難です。SD-2000MK2は独自の超解像技術を用い、倍率 2、NA0.035の光学系を用い、10nmのマスクむら検出を実現しました。
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フォトマスク繰り返しパターンにおけるむらを高速で検出
対象はCCD、CMOSイメージセンサー、LCD、MEMS等フォトマスク
省スペース、高速、低価格を実現
特許取得済み（特許2124747）
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