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製品情報
CO2精密クリーニング
製品概要 Eco-Snow Systems社はドライCO2クリーニングの先駆者として、20以上の米国特許と100台以上の出荷実績を誇り、お客様のニーズに合わせた多様なアプリケーションに対して高品質なドライ洗浄ソリューションを提供しています。
特長 ノズルによる流速・粒系・密度の変更、レシピにより最適化条件設定が可能。
  1. ドライアイスのブラストにより異物除去
  2. 液化炭酸による有機物溶解(一部の有機物に限られる)
  3. サーマルショック+ブラスト効果によるレジスト残渣除去
対象分野 半導体、化合物半導体、フラットパネルディスプレー、ファイバーオプティックス、
ディスクドライブ、イメージデバイス
【Eco-Snow Systems社】 Eco-Snow Systems 社のホームページ
WaferClean 3600
画像 特長
  1. クライオジェニックCO2スプレークリーニング
  2. クラス1チャンバー
  3. 200mm、300mmウエハー対応ブリッジツール
  4. 大気プロセス
  5. 高スループット
  6. 静電気コントロール
  7. 基盤温度コントロール
  8. コンパクトデザイン
利点
  1. 低CO2
  2. マルチプロセス対応
  3. 純水、ケミカル未使用
  4. 脆弱構造体へのダメージレス洗浄
  5. 高いナノサイズパーティクル除去率
  6. シングルステップ・ドライ・プロセス
  7. 高MTBF、低MTTR
WaferClean 2100
画像 特長
  1. スタンドアローン全自動システム
  2. クラス1チャンバー
  3. カセットtoカセット ハンドリング
  4. Microsoft Windowsオペレーションシステム
  5. タッチパネルスクリーン
  6. 温度モニター、結露モニター、静電気モニター搭載
利点
  1. 優れた洗浄性能
  2. サイクルタイムの短縮
  3. コンパクトデザイン
  4. ケミカル未使用
  5. 高MTBF
VersaClean1200
画像 特長
  1. クライオジェニックCO2スプレークリーニング
  2. 大気プロセス
  3. クラス1チャンバー
  4. 静電気コントロール
  5. 基盤温度コントロール
  6. コンパクトデザイン
利点
  1. 低CO2
  2. マルチプロセス対応
  3. 純水、ケミカル未使用
  4. 脆弱構造体へのダメージレス洗浄
  5. 高いナノサイズパーティクル除去率
  6. シングルステップ・ドライ・プロセス
  7. 高MTBF、低MTTR
MaskClean 150
画像 特長
  1. 全自動マスクハンドリング
  2. SMIF200対応ロードステーション
  3. クラス1チャンバー
  4. クライオジェニックCO2スプレークリーニング
  5. マスクの垂直保持
  6. 静電気コントロール
  7. コンパクトデザイン
  8. 基盤温度コントロール
利点
  1. DryインDryアウトプロセス
  2. 複数回洗浄してもCDやフェーズシフトの変化なし
  3. ケミカル未使用
  4. 高スループット
製品に関するお問い合わせ
EcoSnow Systems
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